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TCO layer in Display E-Beam & Ion plating High-Refractive Index LED chip

スパッタリング素材

製品概要

  • LCD, PDP, OLED, TSP等のディスプレイ部品の核心素材に使用され、スパッタリング装置を利用して透明導電膜形成用のターゲット材料

透明電極素材

製品仕様

ITO(Indium Tin Oxide) ターゲット
  • In2O3/SnO2の配合で作られた透明導電性セラミクッス素材
    • 配合率 : 90wt% In2O3 + 10wt% SnO2
    • 密度 : 理論密度の99.5%以上
    • 純度 : 99.99% 以上
  • 平板及び円筒形の形で製作可能
    • 平板サイズ 1250mm X 300mm X 6~14mmT 対応可能
    • 円筒サイズ ID135mm X OD155 X L3,000mm 対応可能

酸化物半導体(OXIDE TFT)素材

製品仕様

IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide) Target
  • In2O3/Ga2O3/ZnOの配合で作られた透明導電性セラミクッス素材
    • 配合率 : In:Ga:Zn=1:1:1、2:2:1、2:1:2、4:2:1
    • 密度 : 理論密度の99%以上
    • 純度 : 99.99% 以上
  • 平板及び円筒形の形で製作可能
    • 平板サイズ 1250mm X 300mm X 6~14mmT 対応可能
    • 円筒サイズ ID135mm X OD155 X L3,000mm 対応可能


製品アプリケーション

  • TFT-LCD, PDP, OLED, Touch Panel, Flexible Display