Advanced Nano Products

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> About us > 沿革

2016. 11 | 「3千万ドル輸出の塔」受賞
2016. 09 | 特許登録：中空形アルミノケイ酸塩(aluminosilicate)粒子及びこの製造方法
2016. 06 | グロバル強小企業「World class 300」選定(韓国中小企業庁)
2016. 06 | グロバル専門候補企業選定(韓国産業通商資源部)

2015. 12 | 大田工場増築(大徳テクノバレー内)
2015. 10 | 日本支店設立(神奈川県横浜市)
2015. 07 | 先端技術企業指定(再延長)
2015. 06 | ベンチャー企業確認(再認証)
2015. 06 | ISO9001及びISO14001再認証

2014. 11 | 特許登録:中空状金属酸化物 – シリケートナノ粒子及びその製造方法
2014. 09 | 大田市2014有望中小企業選定
2014. 07 | 技術革新中小企業INNO-BIZ再認証
2014. 06 | ISO9001及びISO14001再認証

2013. 11 | 先端技術製品確認(大面積高品位/高効率薄膜形成用円筒形ターゲッ
ト製造技術)
2013. 10 | 特許登録:多結晶構造の透明半導体、この製造方法及びこれを
含む透明トランジスター
2013. 09 | 特許登録:単一金属・絶縁体　転移上境界を持つ二酸化バナジウムの
製造方法
2013. 07 | 特許登録: 熱安定性透明導電膜及び透明導電膜の製造方法
2013. 07 | 特許登録: 単一金属・絶縁体　転移上境界を持つ二酸化バナジウム
2013. 06 | ISO9001及びISO14001再認証
2013. 06 | 先端技術企業指定
2013. 06 | ベンチャー企業確認 (再認証)
2013. 05 | 特許登録 : 透明導電膜, 透明導電膜用ターゲット及び透明導電膜用
ターゲットの製造方法
2013. 02 | 特許登録 : 有機LEDの散乱層及び平坦化層形成用バインダー及び上
記バインダーを含む散乱層形成用組成物及び平坦化層組成物
2013. 02 | 特許登録 : 円筒形スパッタリングターゲットの製造方法
2013. 02 | 特許登録 : 熱安定性が優秀な透明導電膜, 透明導電膜用ターゲット
及び透明導電膜用ターゲット製造方法

2012. 12 | 知識経済部長官賞受賞 (12年特区技術事業化対象)
2012. 11 | 2012 AABI Torch Award for Technology Transfer
(Asian Association of Business Incubation)
2012. 07 | ISO9001及びISO14001再認証
2012. 06 | 特許登録 : 噴霧熱分解法によるアルミニウム酸化物がドーピングさ
れた酸化亜鉛粉末の製造
2012. 06 | 第2回忠北FTA成功事例き競進大会奨励賞受賞

2011. 12 | 特許登録 : 非晶質酸化物半導体膜用金属酸化物ターゲット及びその
製造方法
2011. 12 | 2000万ドル輸出塔受賞
2011. 12 | 知識経済部長官賞受賞 (戦略産業育成事業)
2011. 12 | 忠北雇用大賞受賞 (淸州市商工会議所)
2011. 10 | 部品素材専門企業確認 (再認証)
2011. 08 | 特許登録 : アルミニウムを含む非晶質酸化物膜用金属酸化物ター
ゲット及びその製造方法
2011. 07 | ISO9001及びISO14001再認証
2011. 07 | 先端技術製品確認(薄膜太陽電池用円筒形ターゲット製造技術)
2011. 07 | 先端技術製品確認(太陽電池上部電極形成用高効率銀ペースト)
2011. 06 | ベンチャー企業確認及びINNO-BIZ再認証
2011. 05 | アメリカ法人設立 (ANP USA Inc.)
2011. 05 | 転換社債・転換株式 (116,222株)追加上場
2011. 02 | KOSAQ上場、売買開始
2011. 01 | 大德テクノバレー内株式会社ナノ新素材大田工場支店設置